歡迎參加0502【能源奈米論壇】- 共軛焦暨白光干涉儀之表面輪廓量測原理及實務
共軛焦暨白光干涉儀之表面輪廓量測原理及實務
時間:107年5月2日 09:30
地點:應用科技大樓地下一樓B29室
主講者:Sensofar 亞洲區總經理-余宣魁先生
共軛焦暨白光干涉儀之表面輪廓量測原理及實務
10:00-10:40 共軛焦/白光干涉 3D 光學輪廓儀量測原理介紹
內 容: 共軛焦原理與優缺點,
: 白光干涉原理與優缺點
: 共軛焦與白光干涉的比較
: 奈米級粗糙度量測與3D輪廓分析
11:00-11:40 共軛焦/白光干涉技術於科技產業界的相關應用
內 容: 工業科技業上的應用 (半導體/PCB/材料相關)
IC Package, CMP, via measurement, wafer support disk,
Probe card, Bump, Bond pad defect mode,
MEMS, Precise Mold Components, Precise Glass Components,
PCB, Tooling, LCD Panel, Laser Marking, Automotive, Optics.等等